其他產品及廠家
氟化鈣（caf2）是近紅外分束器的優(yōu)xuan材料選擇。 我們的caf2具有高的純度，質量和稠度，并且在所有sio2材料中發(fā)現(xiàn)零o-h吸收。 羥基帶分束器襯底吸收常常限制在近紅外測量中的測量精度。 我們用于caf2分束器的photon pro涂層的帶寬被優(yōu)化以覆蓋所有近紅外和大多數(shù)拉曼區(qū)域，包括斯托克斯和反斯托克斯。
更新時間:2024-12-17
nir-tec-20-9-sa tec（thermally-diffused expanded core fiber）光纖技術熱膨脹光纖末端的模場直徑。這可用于商業(yè)si-smf。模場直徑在光纖末端增加一倍或三倍，改變折射率分布，減小數(shù)值孔徑。軸向和間隙位移公差越大，耦合損耗越小。包層直徑的較小變化可以插入金屬箍并安裝連接器(如右圖)。
更新時間:2024-12-17
非線性光學晶體三硼酸鋰（lib3o5或lbo）具有一系列獨te的特性：從vuv到ir的寬透明范圍、高光學損傷閾值、高有效非線性系數(shù)和非臨界相位匹配可用性、非常小的走離(walk-off)。采用改進的高溫熔劑法生長lbo晶體。
更新時間:2024-12-17
lgs 是一種最近提出的 ir 新型非線性材料，具有纖鋅礦型結構，uv 透射率低至 0.32。opo、opa、dfg 獲得 mid-ir。libc 2族晶體具有一組重要的物理參數(shù)，如帶隙大、二光子吸收低、透光范圍寬，包括太赫茲窗口、低群速度失配、高導熱率、低熱膨脹系數(shù)各向異性、等，這導致在寬光譜范圍內的可調諧激光系統(tǒng)中有效使用。
更新時間:2024-12-17
lgse是一種新型非線性紅外材料，具有纖鋅礦型結構，紫外透射率可降至0.38。libc2基團中紅外晶體的opo、opa、dfg具有一組重要的物理參數(shù)，如帶隙大、雙光子吸收低、透明范圍寬(包括thz窗鏡)、群速度失配低、導熱系數(shù)高、熱膨脹系數(shù)各向異性低等，從而可以有效應用于寬光譜范圍的可調諧激光系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-17
增益芯片是用作外腔半導體激光器或可調諧二極管激光器增益介質的半導體元件。增益芯片被用作tls（可調諧光源），它可以使用波長選擇濾波器（如衍射光柵）來改變振蕩波長。增益芯片類似于激光二極管芯片，不同的是它在一個或兩個端面上都有較深的抗反射涂層，大大提高或消除了自激閾值。
更新時間:2024-12-17
cvd金剛石微波太赫茲窗片/透鏡/分束鏡產品應用● 太赫茲波傳輸窗片● x射線檢測● 紅外光學● 外延基片
更新時間:2024-12-17
al2o3 標準帶通濾光片 4260nm 直徑50mm產品總覽標準帶通濾光片：帶通濾光片用于選擇性地傳輸部分光譜，同時拒絕所有其他波長。spectral system標準帶通濾光片設計用于在感興趣的光譜區(qū)域提供最高的透射率，并對相鄰波長的不需要的能量進行深度抑制。
更新時間:2024-12-17
dcm-pc 產品將連續(xù)啁啾光纖布拉格光柵 (fbg) 的色散補償能力與普通跳線的簡單性相結合。此 dcm 解決方案旨在為尋求簡單且經濟高效的色散解決方案的系統(tǒng)供應商或運營商提供服務。dcm-pc 適用于廣泛的應用領域，從基于基本 tdm 的城域網(wǎng)和區(qū)域網(wǎng)到海底 dwdm 終端中的信道或子帶特定殘余色散補償。
更新時間:2024-12-17
1000 ℃，不受 emi、微波影響optotemp 2000 專為在惡劣的化學和電氣環(huán)境中可靠運行而設計，不受微波/射頻輻射和等離子體的影響。它可以測量高達 1000 ℃的溫度，比競爭光纖溫度計所能達到的溫度高出近 700 ℃。
更新時間:2024-12-17
藍寶石是一種耐化學腐蝕和耐刮擦的材料，熔點為 2,072°c。我們提供直徑為 75 至 500 μm 的 lhpg 級藍寶石光纖。此外，還提供通過錐形化實現(xiàn)端部擴大的光纖。這是一個重要特征，因為光纖的柔韌性隨直徑的 4 次方倒數(shù)而變化（例如，100 μm 光纖的柔韌性是 200 μm 光纖的 16 倍）。錐形光纖為用戶提供了高吞吐量能力
更新時間:2024-12-17
光譜成像是一種通過二維捕捉物體，獲取、分析和顯示物體各部分光譜信息的技術。通過對每個部分的數(shù)據(jù)進行光譜分析，可以獲得材料的物理化學信息，并將其顯示為圖像。該系統(tǒng)由內部開發(fā)的內置小型光譜成像單元（spect-100vis）的光譜成像相機、相機控制軟件、主要用于可見光范圍內光譜成像處理的軟件和pc組成。極高分辨率測量和二維顏色測量都是可能的。
更新時間:2024-12-17
精選caf2基材專門為拉曼光譜分析制造. 在進行拉曼光譜分析研究時，研究人員所選的基材有必要盡量減小對實驗結果的影響。筱曉光子提供的拉曼級caf2基片是專門為做raman光譜分析的研究人員專門定制。
更新時間:2024-12-17
znse 在紅外元器件窗片透鏡以及光譜分析atr 棱鏡領域有著廣泛的應用。硒化鋅(zinc selenide)對于co2激光器的元器件也是一種良好的選擇。在二氧化碳激光器工作的波段10.6 microns附近有著良好的透射率。硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。
更新時間:2024-12-17
近紅外ingaas銦鎵砷相機 990swir 400-1700nm產品包括：1） 相機2） usb3.0 電纜 a 型微型 b 連接器電纜，約 3 米3） 專用查看器軟件/設備驅動程序cd4） 可選：近紅外鏡頭（c安裝鏡頭）
更新時間:2024-12-17
pulstec該傳感器基于shack-hartmann方法，能夠實時測量光源和光學像差。它能夠測量zernike多項式項(15/24/36)，賽德爾像差因子和一般波前磨損。它還具有干涉條紋、二維/三維相位圖、強度分布和點擴散函數(shù)等功能。測試結果(好或不好)可以按給定值測量。
更新時間:2024-12-17
zns flir（forward looking infra-red前視紅外）用于紅外窗口片和熱波段（8至14μm）透鏡，作為熱成像系統(tǒng)（te別是那些遭受惡劣環(huán)境）的堅韌的前光學器件。 zns flir等級比zns多光譜等級具有更高的強度。硫化鋅通過從鋅蒸汽和h 2 s氣體合成而產生，經過壓片形成片狀
更新時間:2024-12-17
耗極低的激光光學器件，對于要求極低損耗的鍍膜光學器件應用, 筱曉光子可提供r > 99.995 %、總損失小于10 ppm的反射鏡。此類超級反射鏡片可用于環(huán)形激光器陀螺儀組件或光腔衰蕩應用。對超拋光基材加工低吸收、低散射鍍膜時，我們會采用改進型ibs鍍膜機。
更新時間:2024-12-17
熔融石英透鏡針對多種高功率激光應用進行了優(yōu)化，可作為測試設備中的原型或光束聚焦或準直的標準組件。asphericon 提供由熔融石英制成的非球面，具有三種不同的質量級別，具有優(yōu)|秀的粗糙度值、7 種不同的涂層以及安裝的光學器件。
更新時間:2024-12-17
sh2504高速硬盤拷貝機，采用sata接口傳輸，可同時復制三個sata硬盤，復制速度高達18gb/分鐘，通過轉接支持ide/msata/ngff/ivdr/esata等接口拷貝，通過位對位（bit to bit）復制模式完全底層復制數(shù)據(jù)，可確保目標盤與母盤數(shù)據(jù)完全一致，兼容各種操作系統(tǒng)如windows、linux、mac等
更新時間:2024-12-13
激光選項可提供高精度的單點聚焦和表面掃描功能，低能量的可見二管激光，發(fā)射光源到零件表面，并接受反射光源，以此獲得數(shù)據(jù)。通過激光掃描零件表面，以獲得高分辨率的表面輪廓。
更新時間:2024-12-11
ogp® 提供了一整套配合輪廓投影儀和ogp smartscope®影像測量儀的標準夾具，使您能夠為高效的檢測提供快速準確和經濟實用的零件定位。
更新時間:2024-12-11
ogp的影像測量儀激光選項可提供高精度的單點聚焦和表面掃描功能，低能量的可見二管激光，發(fā)射光源到零件表面，并接受反射光源，以此獲得數(shù)據(jù)。通過激光掃描零件表面，以獲得高分辨率的表面輪廓。
更新時間:2024-12-11
pmgi&lor光刻膠可在數(shù)據(jù)存儲、無線ic和mems等各種應用中實現(xiàn)高產量，金屬剝離工藝。 在雙層光刻膠層使用時，pmgi和lor將工藝范圍擴展到單層光刻膠層所能達到的范圍之外，包括高分辨率金屬化( 4µm)金屬化。這些獨特的性能適用于多種材料，可滿足客戶的各種需要。
更新時間:2024-12-10
dow陶氏 顯影液mf-20a mf-300系列 mf-26a mf-319
更新時間:2024-12-10
futurrex 刻蝕工藝負性光刻膠nr7-250p nr9-1000p.
更新時間:2024-12-10
microchem su-8光刻膠是一種基于環(huán)氧su-8樹脂的環(huán)氧型的、近紫外負性光刻膠，該系列光刻膠性能優(yōu)良，主要用于厚襯底上需要高深寬比時的應用？蓪贤饩（365nm）照射進行光成像，形成的固化膜或微結構具有出色的熱穩(wěn)定和機械穩(wěn)定性，并耐溶劑和酸堿腐蝕，使其非常適合制造永久性結構，例如像素墻，流體通道和噴嘴，微陣列和墊片等。
更新時間:2024-12-10
az®40 xt的應用始于15-30 µm，在這個厚度范圍時，由于n2脫氣和再水化延遲時間，使用常規(guī)正性光刻膠的光刻工藝變得非常耗時，而az®40 xt可以避免這個問題 。即使對于非常大的光刻膠膜厚度，az®40 xt也只需
更新時間:2024-12-10
az ® 4500系列（az ® 4533和az ® 4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能.
更新時間:2024-12-10
pmma（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。pmma光刻膠是將pmma聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致聚合物鏈斷裂。pmma常用作直寫式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有高的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。pmma還可用作晶圓薄化的保護涂層，粘結粘合劑和刻蝕層。
更新時間:2024-12-10
0.1mlpcr單管 pcr耗材本生(天津)健康科技有限公司供應：全系熒光定量pcr耗材，產品包括：pcr單管、八聯(lián)管、96孔板、384孔板。
更新時間:2024-12-10
0.2ml pcr凸蓋單管本生(天津)健康科技有限公司供應：移液器，分光光度計，發(fā)光檢測儀，全系熒光定量pcr耗材，產品包括：pcr單管、pcr八聯(lián)管、pcr孔板等等。
更新時間:2024-12-10
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