產(chǎn)品簡(jiǎn)介: ETSys-Map-PV是針對(duì)高端薄膜太陽(yáng)電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域中大面積樣品檢測(cè)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)。 ETSys-Map-PV用于對(duì)1.4m * 1.1m及以上的大面積薄膜太陽(yáng)電池樣品進(jìn)行在線檢測(cè)?蓽y(cè)量光滑平面或粗糙表面基底上的納米薄膜,包括單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;并可同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。可測(cè)量樣品上指定區(qū)域的樣品參數(shù)以及樣品表面的均一性分布。 ETSys-Map-PV融合量拓科技在高精度激光橢偏儀及光伏在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域的先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)品設(shè)計(jì)方面的經(jīng)驗(yàn),性能卓越。特點(diǎn):大面積絨面樣品上全表面測(cè)量可對(duì)大面積絨面薄膜太陽(yáng)電池樣品上各點(diǎn)的性質(zhì)進(jìn)行分析和比較。先進(jìn)的光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測(cè)器件以及高信噪比的微弱信號(hào)處理方法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)粗糙表面散射為主和極低反射率為特征的絨面太陽(yáng)電池表面鍍層的高靈敏檢測(cè)。微米量級(jí)的全面積掃描精度先進(jìn)的系統(tǒng)設(shè)計(jì),能夠使探頭到達(dá)樣品上每個(gè)點(diǎn),掃描精度達(dá)到微米量級(jí)。原子層量級(jí)的膜厚分析精度采用非接觸、無(wú)破壞性的橢偏測(cè)量技術(shù),對(duì)納米薄膜達(dá)到極高的測(cè)量準(zhǔn)確度和靈敏度,膜厚測(cè)量靈敏度可達(dá)到0.05nm。簡(jiǎn)單方便安全的儀器操作用戶(hù)只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶(hù)進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。應(yīng)用: ETSys-Map-PV適合于高精度要求的薄膜太陽(yáng)電池研發(fā)和質(zhì)量控制。 ETSys-Map-PV可用于測(cè)量大面積的薄膜太陽(yáng)電池樣品上單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k; ETSys-Map-PV可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n及消光系數(shù)k; ETSys-Map-PV可應(yīng)用于:大面積薄膜太陽(yáng)電池基底的材料測(cè)量薄膜太陽(yáng)電池玻璃基底上透明導(dǎo)電氧化物(TCO)鍍膜測(cè)量 技術(shù)指標(biāo): 項(xiàng)目 技術(shù)指標(biāo)
【福州測(cè)量薄膜厚度儀器林州光譜型橢偏儀林州深受廣大客戶(hù)青睞一共有★★30★★多種型號(hào)以上只顯示1-3種型號(hào),如沒(méi)有合適您的產(chǎn)品請(qǐng)咨詢(xún) 河北德科機(jī)械設(shè)備有限公司】福州測(cè)量薄膜厚度儀器林州光譜型橢偏儀林州深受廣大客戶(hù)青睞多種型號(hào)內(nèi)容型號(hào):JX200089EX3 自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀
EX3自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀是基于消光法(或稱(chēng)“零橢偏”)測(cè)量原理,針對(duì)納米薄膜厚度測(cè)量領(lǐng)域推出的一款自動(dòng)測(cè)量型教學(xué)儀器。與EM22儀器相比,該儀器采用半導(dǎo)體激光器作為光源,穩(wěn)定性好,體積更小。EX3儀器適用于納米薄膜的厚度測(cè)量,以及納米薄膜的厚度和折射率同時(shí)測(cè)量。EX3儀器還可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料(如,金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì))的折射率n和消光系數(shù)k。特點(diǎn):經(jīng)典消光法橢偏測(cè)量原理儀器采用消光法橢偏測(cè)量原理,易于理解和掌握橢偏測(cè)量基本原理和過(guò)程。方便安全的樣品水平放置方式采用水平放置樣品的方式,方便樣品的取放。緊湊的一體化結(jié)構(gòu)集成一體化設(shè)計(jì),簡(jiǎn)潔的儀器外形通過(guò)USB接口與計(jì)算機(jī)相連,方便儀器使用。高穩(wěn)定性光源采用半導(dǎo)體激光器作為探測(cè)光的光源,穩(wěn)定性高,噪聲低。豐富實(shí)用的樣品測(cè)量功能可測(cè)量納米薄膜的膜厚和折射率、塊狀材料的復(fù)折射率等。便捷的自動(dòng)化操作儀器軟件可自動(dòng)完成樣品測(cè)量,并可進(jìn)行方便的測(cè)量數(shù)據(jù)分析、儀器校準(zhǔn)等操作。安全的用戶(hù)使用權(quán)限管理軟件中設(shè)置了用戶(hù)使用權(quán)限(包括:管理員、等模式),便于儀器管理和使用。可擴(kuò)展的儀器功能利用本儀器,可通過(guò)適當(dāng)擴(kuò)展,完成多項(xiàng)偏振測(cè)量實(shí)驗(yàn),如馬呂斯定律實(shí)驗(yàn)、旋光測(cè)量實(shí)、旋光等。應(yīng)用領(lǐng)域:EX3適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測(cè)量,也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。EX3可測(cè)量的樣品涉及微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。技術(shù)指標(biāo):
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
儀器型號(hào) | EX3 |
測(cè)量方式 | 自動(dòng)測(cè)量 |
樣品放置方式 | 水平放置 |
光源 | 半導(dǎo)體激光器,波長(zhǎng)635nm |
膜厚測(cè)量重復(fù)性* | 0.5nm (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
膜厚范圍 | 透明薄膜:1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) |
折射率范圍 | 1.3 – 10 |
探測(cè)光束直徑 | Φ2-3mm |
入射角度 | 30°-90°,精度0.05° |
偏振器方位角讀數(shù)范圍 | 0-360° |
偏振器步進(jìn)角 | 0.014° |
樣品方位調(diào)整 | Z軸高度調(diào)節(jié):16mm 二維俯仰調(diào)節(jié):±4° |
允許樣品尺寸 | 圓形樣品直徑Φ120mm,矩形樣品可達(dá)120mm x 160mm |
配套軟件 | * 用戶(hù)權(quán)限設(shè)置 * 多種測(cè)量模式選擇 * 多個(gè)測(cè)量項(xiàng)目選擇 * 方便的數(shù)據(jù)分析、計(jì)算、輸入輸出 |
外形尺寸 | (入射角度70°時(shí))450*375*260mm |
儀器重量(凈重) | 15Kg |
注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次的標(biāo)準(zhǔn)差。性能保證:ISO9001國(guó)際質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證專(zhuān)業(yè)的儀器使用培訓(xùn)專(zhuān)業(yè)的橢偏測(cè)量原理課程
欄目頁(yè)面:http://www.runlian365.com/product/4516.html光譜橢偏儀來(lái)源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200089.htmlEX3 自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀型號(hào):JX200098EM12 精致型多入射角激光橢偏儀
EM12是采用量拓科技先進(jìn)的測(cè)量技術(shù),針對(duì)中端精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。 EM12可在單入射角度或多入射角度下對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量?捎糜跍y(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的厚度測(cè)量。 EM12采用了量拓科技多項(xiàng)專(zhuān)利技術(shù)。特點(diǎn):次納米量級(jí)的高靈敏度國(guó)際先進(jìn)的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量極薄納米薄膜,膜厚精度可達(dá)到0.2nm。1.6秒的快速測(cè)量國(guó)際水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì),在保證精度和準(zhǔn)確度的同時(shí),可在1.6秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量,可對(duì)納米膜層生長(zhǎng)過(guò)程進(jìn)行測(cè)量。簡(jiǎn)單方便的儀器操作用戶(hù)只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶(hù)進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。應(yīng)用:EM12適合于中端精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。EM12可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。EM12可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括:微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等?蓱(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。技術(shù)指標(biāo):
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
儀器型號(hào) | EM12 |
激光波長(zhǎng) | 632.8nm (He-Ne Laser) |
膜厚測(cè)量重復(fù)性(1) | 0.2nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
折射率測(cè)量重復(fù)性(1) | 2x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
單次測(cè)量時(shí)間 | 與測(cè)量設(shè)置相關(guān),典型1.6s |
的膜層范圍 | 透明薄膜可達(dá)4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | PSCA(Δ在0°或180°附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度) |
激光光束直徑 | 1-2mm |
入射角度 | 40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié),步進(jìn)5° |
樣品方位調(diào)整 | Z軸高度調(diào)節(jié):±6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié):±4° 樣品對(duì)準(zhǔn):光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) |
樣品臺(tái)尺寸 | 平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm |
外形尺寸 | 887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí)) |
儀器重量(凈重) | 25Kg |
選配件 | 水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái) 真空吸附泵 |
軟件 | ETEM軟件: l 中英文界面可選; l 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用; l 單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合; l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫(kù)支持 |
注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證:
- 穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、先進(jìn)的采樣方法,保證了高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度
- 高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)
- 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn),結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量
- 分立式的多入射角選擇,可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測(cè)量
- 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間
- 一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù),方便用戶(hù)使用
- 可選配件: NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片 NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片 VP01真空吸附泵 VP02真空吸附泵 樣品池
欄目頁(yè)面:http://www.runlian365.com/product/4516.html光譜橢偏儀來(lái)源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200098.htmlEM12 精致型多入射角激光橢偏儀型號(hào):JX200092ETSys-Map-PV在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)
ETSys-Map-PV是針對(duì)高端薄膜太陽(yáng)電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域中大面積樣品檢測(cè)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)。 ETSys-Map-PV用于對(duì)1.4m * 1.1m及以上的大面積薄膜太陽(yáng)電池樣品進(jìn)行在線檢測(cè)?蓽y(cè)量光滑平面或粗糙表面基底上的納米薄膜,包括單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;并可同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k?蓽y(cè)量樣品上指定區(qū)域的樣品參數(shù)以及樣品表面的均一性分布。 ETSys-Map-PV融合量拓科技在高精度激光橢偏儀及光伏在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域的先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)品設(shè)計(jì)方面的經(jīng)驗(yàn),性能卓越。特點(diǎn):大面積絨面樣品上全表面測(cè)量可對(duì)大面積絨面薄膜太陽(yáng)電池樣品上各點(diǎn)的性質(zhì)進(jìn)行分析和比較。先進(jìn)的光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測(cè)器件以及高信噪比的微弱信號(hào)處理方法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)粗糙表面散射為主和極低反射率為特征的絨面太陽(yáng)電池表面鍍層的高靈敏檢測(cè)。微米量級(jí)的全面積掃描精度先進(jìn)的系統(tǒng)設(shè)計(jì),能夠使探頭到達(dá)樣品上每個(gè)點(diǎn),掃描精度達(dá)到微米量級(jí)。原子層量級(jí)的膜厚分析精度采用非接觸、無(wú)破壞性的橢偏測(cè)量技術(shù),對(duì)納米薄膜達(dá)到極高的測(cè)量準(zhǔn)確度和靈敏度,膜厚測(cè)量靈敏度可達(dá)到0.05nm。簡(jiǎn)單方便安全的儀器操作用戶(hù)只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶(hù)進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。應(yīng)用: ETSys-Map-PV適合于高精度要求的薄膜太陽(yáng)電池研發(fā)和質(zhì)量控制。 ETSys-Map-PV可用于測(cè)量大面積的薄膜太陽(yáng)電池樣品上單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k; ETSys-Map-PV可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n及消光系數(shù)k; ETSys-Map-PV可應(yīng)用于:大面積薄膜太陽(yáng)電池基底的材料測(cè)量薄膜太陽(yáng)電池玻璃基底上透明導(dǎo)電氧化物(TCO)鍍膜測(cè)量 技術(shù)指標(biāo):
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
系統(tǒng)型號(hào) | ETSys-Map-PV |
結(jié)構(gòu)類(lèi)型 | 在線式 |
激光波長(zhǎng) | 632.8nm (He-Ne laser) |
膜厚測(cè)量重復(fù)性(1) | 0.05nm (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
折射率n精度(1) | 5x10-4 (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
結(jié)構(gòu) | PSCA |
激光光束直徑 | ~1 mm |
入射角度 | 60°-75°可選 |
樣品放置 | 放置方式:水平 運(yùn)動(dòng):X軸單方向運(yùn)動(dòng) 運(yùn)動(dòng)范圍:>1.4m 三維平移調(diào)節(jié) 二維俯仰調(diào)節(jié) 可對(duì)樣品進(jìn)行掃描測(cè)量 |
樣品臺(tái)尺寸 | 1.4m*1.1m,并可定制。 |
測(cè)量速度 | 典型0.6s-4s /點(diǎn)(取決于樣品種類(lèi)及測(cè)量設(shè)置) |
的膜層厚度測(cè)量范圍 | 光滑平面樣品:透明薄膜可達(dá)4000nm,吸收薄膜與材料性質(zhì)相關(guān) |
選配件 | 樣品監(jiān)視系統(tǒng) 自動(dòng)樣品上片系統(tǒng) |
注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。性能保證高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、高精度的采樣方法以及低噪聲探測(cè)技術(shù),保證了系統(tǒng)的高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn),結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量一體化集成式的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù),方便用戶(hù)使用 可選配件: NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片 NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
欄目頁(yè)面:http://www.runlian365.com/product/4516.html光譜橢偏儀來(lái)源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200092.htmlETSys-Map-PV在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)
福州測(cè)量薄膜厚度儀器林州光譜型橢偏儀林州深受廣大客戶(hù)青睞多種型號(hào)圖片
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型號(hào):JX200089EX3 自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀 | 型號(hào):JX200098EM12 精致型多入射角激光橢偏儀 | 型號(hào):JX200092ETSys-Map-PV在線薄膜測(cè)量系統(tǒng) |
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